SAL-3000Plus ALD原子層沉積系統(tǒng) |
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| 分類 | AGUS ALD-原子層沉積系統(tǒng) |
| 型號(hào) | SAL-3000Plus |
| 品牌 | AGUS |
| 產(chǎn)地 | 日本，進(jìn)口 |
SAL-3000Plus ALD原子層沉積系統(tǒng)
SAL3000Plus是一款可拓展型的ALD原子層沉積系統(tǒng)，可通過連接STR2000轉(zhuǎn)移單元，與退火設(shè)備SAN2000Plus，鍍膜設(shè)備，SVE2000Plus蒸鍍?cè)O(shè)備，SSP2000Plus/SSP3000Plus磁控濺射設(shè)備搭配；
SAL-3000Plus SAL3000-Plus+STR2000+SAN2000Plus
性能及特點(diǎn)：
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1.鍍膜質(zhì)量高 |
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· 膜厚均勻性≤3% @ 100mm |
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· 對(duì)于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結(jié)構(gòu)具有良好的沉積均勻性； |
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· 膜厚可準(zhǔn)確控制達(dá)一個(gè)原子層； |
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· 大面積制程可達(dá)到無孔洞薄膜（Pin Hole free） |
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· 極高的重復(fù)性及穩(wěn)定性 |
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· 材料缺陷密度低 |
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· 可成長非晶型或結(jié)晶薄膜（選擇溫度） |
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2.兩種成膜方向可選 |
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· 可選擇將薄膜沉積在基底上表面和基底下表面，薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著基底的風(fēng)險(xiǎn)。 |
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3. 可通過STR2000與其它Plus系列設(shè)備串聯(lián) |
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4.最多可搭載6路前驅(qū)體 |
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5.優(yōu)異的真空性能：真空度≤5Pa |
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6.圖形用戶界面，觸控操作，簡單易用，可存儲(chǔ)30多種鍍膜方案 |
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7.與SAL3000相比，寬度減少了40％ |
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6. 可搭配多種配件： |
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| 干式真空泵，臭氧發(fā)生器，尾氣處理裝置，800℃基底加熱器，200℃前驅(qū)體加熱器等，退火設(shè)備等； |
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